“科技知识：光刻机是什么东西”

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光刻机( mask aligner )又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。 因为常用的光刻机是掩模对齐光刻，所以遮蔽对齐系统.

光刻机的企业品牌很多，根据技术路线可以分为以下几类。 高端投影式光刻机分为光刻机和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在7纳米到几微米之间，高端光刻机被誉为世界上最精密的仪器，世界上已经有1.2亿美元一台光刻机。 高端光刻机被称为现代光学工业之花，其制造难度很高，世界上只有少数企业能够制造。 海外企业品牌主要以荷兰的asml (镜头来自德国)、日本的nikon )、Intel购买过nikon的高端光刻机)、日本的canon三大企业品牌为主。 位于我国上海的smee已经开发出了具有自主知识产权的投影式中端光刻机，并形成了产品系列初步实现了国内外的销售。 进行其他各系列产品的研究开发制作。 生产线和研发用的低端光刻机是近、接触式光刻机，分辨率通常在几微米以上。 主要是德国的suss、美国的mycro nxq4006、中国企业品牌。

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