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“Intel揭密10nm SuperFin新工艺製程 强调不亚于其它晶圆厂7nm技术与效能表现”

发布日期:2021-06-21 12:54:02 浏览:

今天(9/15 ),台湾英特尔特别举办年架构日的技术共享会上,展示了包括最新工艺技术在内的一系列新技术上的突破。 这一10纳米工艺与晶片代理工厂大制造商7纳米工艺的性能和晶体管密度性能基本相当,实现了英特尔历史上单一节点内最大的性能提高和所有节点转换旗鼓相当的性能改善。

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10纳米superfin工艺提高了代号为tiger lake的第11代英特尔酷睿薄型笔记本电脑的性能。 另外,通过内置最多96eu的英特尔IRIS xe图形,可以提供全高清画质的边框3、farcrynewDawwaws

~英特尔封装技术的发展图如下。 10纳米超精密技术结合了增强的超精密晶体管、增强的互连金属堆栈和新的超精密电容器,实现了英特尔历史上最大的单节点内增强。

此外,10纳米超精细技术结合了英特尔增强的超精细晶体管和超精细电容器,以及增强的布线金属堆栈,实现了与完全布线过渡相同的性能提升,是IC史上最大的单核内部

摩尔定律仍然是英特尔战略的核心,因为英特尔正在进行更高级的流程开发。 英特尔还特别介绍了下一代英特尔Agilex FPGA,提供了突破性的性能功耗比。

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